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半导体超纯水设备
发布日期:[ 2020-04-01 ]    共阅 [  ] 次

 半导体超纯水设备

半导体行业用超纯水设备控制系统可采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上,取达国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表。

半导体超纯水设备

半导体超纯水设备用水水质标准: 

半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备,需要符合特定的用水水质标准,下面具体介绍下半导体超纯水设备  半导体超纯水设备出水水质标准:    

半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。   

半导体超纯水设备

半导体超纯水设备制水工艺:    

1:预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)。   

2:预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(最新工艺)。 

3:预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→用水点。

佳洁公司20年专业从事水处理设备的技术开发、生产及工程设计施工于一体的创新型高新技术企业,公司有着雄厚的技术力量及丰富的工程实施经验,已成功服务于国内8600多家商户,以水处理解决方案技术为核心,为客户量身制作最适合的水处理设备。公司长期从事纯水设备的研发,生产,安装,维修,出租为一体的水处理服务公司,集了众多膜水分离专业技术人才,公司主营:RO反渗透纯水设备离子交换,中水回用循环水预处理,edi员工直饮水,生活饮用水,净化水处理设备。

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