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超纯水机纯水设备
发布时间:1970年01月01日 08时01分00秒 共阅 [  ] 次

 超纯水机纯水设备,准确提出生产工艺对超纯水质量要求和原水水质情况 ,选择设计能力强的专业水处理公司设计并选用合理处理工艺,深入了解市场情况,选用技术先进,性能优良的设备,设置全面、稳定可靠的监测仪表及控制方法,并由专业水处理公司进行施工、调试,这是成功建设一个满使用要求,经济节能、稳定可靠的超纯水机纯水设备系统科学步骤和方法。

一,超纯水机纯水设备应用行业有很多,现以半导体工业的超纯水制备技术的工艺状况为例: 

通常超纯水制备工艺以自来水为原水,根据表1的水质要求,可知超纯水制备主要的净化工艺为:去颗粒物工艺(包括微粒子和T-Si 等),脱盐工艺,去有机物(TOC 和杀菌)和脱气工艺(深度脱氧等)。其中各个工艺的组合,根据不同的原水水质及处理水水质要求等而有所差异。

 

1.1 颗粒物去除工艺

超纯水中制造中颗粒物的去除方法一般是过滤去除或者吸附去除,不同尺寸的颗粒物所需的工艺也有差异。传统的纯水制造工艺中,颗粒物的处理一般是多介质过滤器(MMF)+活性炭过滤器(ACF),在半导体行业超纯水的制造中,对颗粒物尺寸的要求更加严格,甚至严格到 50 nm 微粒子的程度,且目前很多半导体公司要求微粒子(小于 50 nm)的数量需小100个/L[2]。所以仅仅MMF+ACF,很难达到要求。这个需要用精密膜过滤装置进一步处理微小尺寸的颗粒物,如微滤(MF),超滤(UF),纳滤(NF)和反渗透(RO)等等。MF的孔径在0.02~10 μm,UF的过滤孔径在0.001~0.02 μm,反渗透的孔径为0.0001~0.001 μm,理论上组合膜过滤装置,能满足对颗粒物去除的要求。

半导体工业超纯水制造工艺中,一般去除颗粒物,分为初始过滤,如MMF+ACF等;中端过滤装置,如RO前端的安全过滤器等:为了保证 RO稳定高效运行,需RO入口SDI<5;终端过滤,一般是设置在最终端,通常是UF膜过滤装置。所有工序完成后,可能前段过程中会有少量散落的微小颗粒,对微粒子进行最后的深度处置。

1.2 脱盐工艺

脱盐工艺即去除水中离子的工艺,电阻率是水中离子含量的表征。常规的脱盐工艺为RO浓缩工艺,离子交换树脂的吸附工艺和电去离子(EDI)工艺等等。半导体行业超纯水对于电阻率的要求非常严格,电阻率大于18.2(MΩ·cm),理论上几乎不含离子,常规的单一工艺很难达到这一要求。一般都是几种工艺联合使用,如树脂+RO+EDI 等,各地自来水的离子含量也各有差别,根据不同的情况调整工艺组合情况,一般在颗粒物初级去除后,就需要进行脱盐工艺。

1.3 去有机物工艺

由于超纯水的原水通常是自来水,我国的国标规定的自来水没有TOC的标准,代表有机物含量的指标是 CODmn,限值是 3 ppm,常规的自来水中的TOC大概在 1~3 ppm 左右。表1中对TOC 的要求是 ppb 级的,所以对TOC的处理也是需要多级工艺处理才可能达到水质要求。ACF、UF、RO 和 EDI 等都有处理TOC 的能力。通常经过这些前端处理,TOC大概降至10~30 ppb左右,再通过 TOC-UV灯装置,能将TOC降至小1 ppb,最终达到半导体工厂的超纯水水质要求。

1.4 脱气工艺

常规的超纯水制造中,脱气的工艺一般是物理脱气,热力除气,化学脱气,膜脱气。物理脱气如常用的脱气塔,用物理搅拌的方法脱除水中的溶解性二氧化碳;热力除气,利用温度越高,水中气体溶解性越低的物理学特征,通过加热来去除溶解性气体;化学脱气一般是水中加入还原性的化学物质,如亚硫酸钠,氢气等等,用于还原溶解氧(DO),去除水中溶解氧;脱气膜是比较先进的工艺,脱气效果也比较好,通过憎水纤维膜将液相和气相分开,在气相抽真空,使得气体被去除,液相中的气体就会扩散到气相中,从而达到去除溶解性气体的作用。行业的不同,对于溶解性气体的要求也不一样,比如工业锅炉的水质,就对一定大气压下,溶解氧的浓度有规定。对于半导体行业的溶解性气体,我国国标对于电子水的规定中没有这些指标,但是近年的半导体行业,对于溶解氧(DO)的要求甚至严格到小于1 ppb,所以去除水中的溶解氧是技术难点,在去除的同时,还要保证隔绝空气,对于容器和管道的气密性要求非常严格。通常半导体工业超纯水深度脱气是通过多级脱气膜联合运行,才能达到这一要求,且对脱气膜的性能要求也特别高。

1.5 其他

对于超纯水机纯水设备的出水水质控制,除了上述的要求,还有出水温度,出水压力等要求。由于最终要求的超纯水要求特别严格,所以超纯水制造工艺中,除了各种处理工艺,对于设备的材质要求也很高,不合适的材质可能导致杂质溶出,造成二次污染,目前超纯水的过流材料一般是 PVDF,PTFE,PFA 等材质的特别稳定的高分子合成材料。设备自动化程度,设备运行的过程控制与管理等,也是半导体工业超纯水制造和使用的时候,需要解决和重视的问题。

半导体用带脱气塔的纯水设备

                         半导体行业用带脱气塔的超纯水机纯水设备


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