半导体产品清洗用超纯水设备在设计上采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水出水水质电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，采用PLC+触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。

　　半导体用超纯水水质标准：

我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

　　半导体产品清洗用超纯水设备对水质的要求：

新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

半导体产品清洗用超纯水设备应用场合：

1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

5、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

6、晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

7、集成电路生产中高纯水清洗硅片

8、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

9、LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

10、高品质显像管、萤光粉生产

11、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

12、超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

13、实验室和中试车间

14、汽车、家电表面抛光处理

15、光电产品、其他高科技精微产品

为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长半导体产品清洗用超纯水设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。在半导体产品清洗用超纯水设备在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

 半导体产品清洗用超纯水设备工艺流程图：

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