2t edi超纯水设备的应用范围：

1.在电子工业、科研实验室、检验分析行业常用EDI制取18MΩNaN以上的超纯水；

2.在精细化工、发电、电镀行业常用edi制取15MΩNaN以上的高纯水；

3.在医院和制药行业常用edi制取5MΩNaN以上的纯化水；

4.电子工业用水：集成电路、硅晶片、显示管等电子元器件冲洗水；

5.液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液；

6.晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制；

7.黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；

8.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；

9.电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液；

10.显像管和阴极射线管生产、配料用纯水；

11.集成电路生产中高纯水清洗硅片；

12.电子、微电子工业、精密机械行业清洗用超纯水；

13.太阳能光伏，光电行业，半导体行业清洗用超纯水设备；

14.单晶硅/多晶硅/硅材料/太阳能电池用工业超纯水设备；

15.LCD液晶显示器、PDP等离子显示屏，LED光学镜片清洗用水；

16.光学镜片清洗、薄膜电池多晶铸锭用超纯水设备；

17.手机生产用水清洗行业；EDI超纯水设备的应用范围。

18.玻璃镀膜配套超高纯水设备，特别是LOW-E镀膜生产线清洗用水；

19.电镀电泳涂装用水、感光胶片、电镀件清洗水；

20.电力行业锅炉补给水、火力发电锅炉、厂矿中低压锅炉动力系统等企业高压锅炉补给水的预脱盐处理。

 2t edi超纯水设备详细介绍

一、2t edi超纯水设备流程：

原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→edi系统→微孔过滤器→用水点

二、设备主要参数：

产水水质：电阻率大于17.5兆欧姆

颗粒个数：2um的颗粒不能检出,1um的颗粒小于300个

回收率：70%~75%

运行压力：0.6Mpa

原水进水压力：0.15mpa

RO进水压力：0.6mp

运行压差：0.15mpa

EDI运行压力：0.2mpa

设备总功率：5kw

使用电压：380V/三相四线

进水水质:普通自来水

整机尺寸：8米*1.5米*2米

三、2t edi超纯水设备主要设备配置与作用：

1.自来水箱：配备一个2000LPE水箱，储存自来水，解决自来水压力不足的问题，可解决后面原水加压泵因进水不足带来的影响，减少故障率

2. 原水加压泵：配备不锈钢水泵一台，为后续的过滤提供足够的压力

3. 多介质过滤器：配备石英砂过滤器一套，规格：1665#，直径：410mm，高度：1650mm,主要去除自来水中的泥砂、悬浮物及大的颗粒

4. 活性碳过滤器：配备活性碳过滤器一套，规格：1665#，直径：410mm，高度：1650mm,主要去除自来水中的有机物、余氯及异味

5. 软水器：配备软水过滤器一套，规格：规格：1665#，直径：410mm，高度：1650mm,主要去除自来水中的钙镁离子，降低水的硬度

6. 精密过滤器：配备保安过滤器一套，规格：20寸5芯，主要去除大小5um的颗粒，进一保护反渗透膜

7. 高压泵：配备不锈钢高压泵一台，为反渗透系统提供足够的压力

8. 一级反渗透主机：纯水设备的核心部分，选用原装进口陶氏反渗透膜，产水电导率稳定，

9.中间水箱：配备2000L纯水箱一个，储存纯水

10. edi系统：超纯水的核心部分，通过电解的方式进行再生与制水的连续交替，无需传统的人工再生操作，产水水质稳定，使用寿命长

11. 储存水箱：用于储存超纯水

四、2t edi超纯水设备控制系统：

整套系统系统有两种运行模式：手动与自动模式，

手动模式为检修模式，

自动模式为运行模式

原水箱缺水时，整个系统不能工作

五、2t edi超纯水设备保养：

1. 每日登记运行参数：如产水流量、电导率、运行压力、进水压力等运行参数

2. 每月检查保安过滤器滤芯，发现脏污需要及时更换

3. 整机保修一年，耗材不要保修范围内，如石英砂、活性碳、软水树脂、RO膜、滤芯等。

六、2t edi超纯水设备耗材更换周期：

1. 石英砂：1年

2. 活性碳：1年

3. 软水树脂：3年

4. 反渗透膜：3年

5. EDI膜堆：5年

5. 滤芯：1个月

根据贵公司出水要求作为衡量测试标准，以电阻率仪表读数为准。如果在试运行期间，碰到原水水质有较大范围的变化，卖方应提供期望的水质计算，以便证明系统的设计是正确的，如果运行证明能满足其出水要求，则认为已经完成试运行。

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