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反渗透膜系统故障排除指南-佳洁纯水设备
发布日期:[ 2020-04-13 ]    共阅 [  ] 次

 本故障排除指南是基于使用陶氏膜元件的系统而言的,即使您的系统没有选用陶氏膜元件,本节所提供的信息也对您有所帮助,但您还应该根据您以往的经验确认本节信息对您特定系统的适应性。

压 降 高

症  状

可能的原因

解  决  方  法

产水量低

(进水压力高)

碳酸钙沉淀

按清洗导则在pH2的条件下对系统进行清洗,如果结垢严重,需要重复清洗;如果结垢十分严重或重复清洗不经济时,应更换膜元件。一般情况下,把系统 后的元件取出称重就可以了解结垢的程度。

 

硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶沉淀

按清洗导则在pH12的条件下对系统进行清洗,如果结垢严重,需要重复清洗;如果结垢十分严重或重复清洗不经济时,应更换膜元件。一般情况下,把系统 后的元件取出称重就可以了解结垢的程度(但钡和锶的结垢除外)。

 

氟化钙结垢

在pH2的条件下按清洗导则进行清洗。

 

磷酸盐结垢

过量投加含磷酸根的化学品,通常很难清洗,建议更换新元件。

 

二氧化硅结垢

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗。

 

膜元件被异物堵塞或膜表面受到磨损(如砂粒等)

用探测法探测系统内的元件,找到已损坏的膜元件,改造预处理,更换膜元件。

 

淤泥或粘土堵塞

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗。

 

胶体硅污堵

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗。

 

微生物污堵

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗和消毒整个系统。把系统 前面的元件取出称重就可以了解微生物污堵的程度。

 

活性炭粉末和砂粒

出现性产水量下降,需按照清洗导则进行单支膜元件的单独清洗,可以部分恢复膜元件的性能。

透盐率高 (脱盐率低)

症  状

可能的原因

解  决  方  法

透盐率高

产水量高

(进水压力低)

膜氧化

更换受损膜元件,根除氧化源,通常情况下,系统中的支元件首先受氧化攻击,可采用探测法确定。

 

膜面剥离

(产水背压所致)

更换受损膜元件,可采用寻找分布规律法(profiling)和探测法(probing)确 定受损膜元件。

 

清洗消毒方法不正确

(存在铁污染)

更换受损膜元件,膜元件在采用任何含有潜在氧化性的消毒剂前,首先必须清洗掉铁和其它金属离子。通常情况下,系统中的支元件首先受损,可采用探测法确定。

 

严重的机械损坏

更换受损膜元件,可采用寻找分布规律法(profiling)和探测法(probing)确 定受损膜元件。

透盐率高

产水量正常

“O"形圈泄漏或未装

采用寻找分布规律法(profiling)和探测法(probing)确定泄漏位置,更换已受损的“O"形密封圈。建议采用合适的密封剂并调整膜元件在压力外壳内的间歇,限制由于元件在压力容器内的运动而引起的密封圈磨损。

 

膜表面磨损

用探测法可找到已损坏的膜元件,整改预处理,更换膜元件。

 

内部部件破裂

采用寻找分布规律法(profiling)和探测法(probing)确定泄漏位置,更换已受损的部件,如果膜元件产水管受损,更换膜元件。建议采用合适的密封剂并调整膜元件在压力外壳内的间歇,限制由于元件在压力容器内的运动而引起的密封圈磨损。

透盐率高

产水量低

(进水压力高)

有机物污染

检查有机物或油的含量或是否超回收率操作。按陶氏的清洗导则在pH12的条件下进行清洗,某些有机物容易清洗,但对聚电解质类有机物污染,清洗无效,而且也难于清洗油类有机物,此时可尝试用pH12的洗涤剂。

 

碳酸盐结垢

按清洗导则在pH2的条件下对系统进行清洗,可能需要强烈重复清洗,如果结垢十分严重或重复清洗不经济时,应更换膜元件。一般情况下,把系统 后的元件取出称重就可以了解结垢的程度。

 

硫酸盐结垢

按清洗导则在pH12的条件下对系统进行清洗,可能需要强烈重复清洗,如果结垢十分严重或重复清洗不经济时,应更换膜元件。一般情况下,把系统 后的元件取出称重就可以了解结垢的程度。

 

膜元件被异物堵塞或膜表面受到磨损(如砂粒等)

用探测法探测系统内的元件,找到已损坏的膜元件,改造预处理,更换膜元件。

 

胶体硅污堵

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗,但胶体硅污堵的清洗十分困难,建议调整预处理,降低回收率。

 

氧化铁污堵

按清洗导则采用亚硫酸氢钠在pH5的条件下进行清洗。

 

其它重金属氧化物污堵

在pH2的条件下按清洗导则进行清洗。

 

硫化亚铁污堵

在pH2的条件下按清洗导则进行清洗。应严防空气进入膜系统。

 

氟化钙污堵

在pH2的条件下按清洗导则进行清洗。

 

磷酸盐结垢

过量投加含磷酸根的化学品,通常很难清洗,建议更换新元件。

 

二氧化硅结垢

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗,但胶体硅污堵的清洗十分困难,建议调整预处理,降低回收率。

产水量低 (操作压力高)

症  状

可能的原因

解  决  方  法

产水量低

(进水压力高)

透盐率低

有机物污染

检查有机物或油的含量或是否超回收率操作。按清洗导则在pH12的条件下进行清洗,某些有机物容易清洗,但对聚电解质类有机物污染,清洗无效,而且也难于清洗油类有机物,此时可尝试用pH12的洗涤剂。

 

碳酸盐结垢

按清洗导则在pH2的条件下对系统进行清洗,可能需要强烈重复清洗,如果结垢十分严重或重复清洗不经济时,应更换膜元件。一般情况下,把系统 后的元件取出称重就可以了解结垢的程度。

 

硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶沉淀

按清洗导则用EDTA在pH12的条件下对系统进行清洗,如果结垢严重,需要重复清洗;如果结垢十分严重或重复清洗不经济时,应更换膜元件。一般情况下,把系统 后的元件取出称重就可以了解结垢的程度(但钡和锶的结垢除外)。

 

超极限水锤破坏

更换受损膜元件。

产水量低

(进水压力高)

透盐率正常

微生物污堵

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗和消毒整个系统。把系统 前面的元件取出称重就可以了解微生物污堵的程度。

 

天然有机物污染

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗和消毒。

 

保护液失效

(投运前或投运后)

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗。

 

活性炭粉末和砂粒

出现性产水量下降,需按照清洗导则进行单支膜元件的单独清洗,可以部分恢复膜元件的性能。

产水量低

(进水压力高)

透盐率高

油类有机物污染

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗,改善预处理以减少进入膜元件的油类,对于油类有机物的清洗,可尝试采用pH12的洗涤剂。

 

淤泥或粘土堵塞

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗。

 

胶体硅污堵

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗。

 

氧化铁污堵

按清洗导则采用亚硫酸氢钠在pH5的条件下进行清洗。

 

其它重金属氧化物污堵

在pH2的条件下按清洗导则进行清洗。

 

硫化亚铁污堵

在pH2的条件下按清洗导则进行清洗。应严防空气进入膜系统。

 

碳酸钙沉淀

按清洗导则在pH2的条件下对系统进行清洗,如果结垢严重,需要重复清洗;如果结垢十分严重或重复清洗不经济时,应更换膜元件。一般情况下,把系统 后的元件取出称重就可以了解结垢的程度。

 

硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶沉淀

按清洗导则在pH12的条件下对系统进行清洗,如果结垢严重,需要重复清洗;如果结垢十分严重或重复清洗不经济时,应更换膜元件。一般情况下,把系统 后的元件取出称重就可以了解结垢的程度(但钡和锶的结垢除外)。

 

氟化钙污堵

在pH2的条件下按清洗导则进行清洗。

 

磷酸盐结垢

过量投加含磷酸根的化学品,通常很难清洗,建议更换新元件。

 

二氧化硅结垢

按清洗导则在pH12的条件下进行清洗。

 

膜元件被异物堵塞或膜表面受到磨损(如砂粒等)

用探测法探测系统内的元件,找到已损坏的膜元件,改造预处理,更换膜元件。

产水量高 (进水压力降低)

症  状

可能的原因

解  决  方  法

产水量增加

(进水压力降低)

透盐率增加

膜氧化

更换受损膜元件,根除氧化源,通常情况下,系统中的支元件首先受氧化攻击,可采用探测法确定。

 

膜面剥离

(产水背压所致)

更换受损膜元件,可采用寻找分布规律法(profiling)和探测法(probing)确 定受损膜元件。

 

清洗消毒方法不正确

(存在铁污染)

更换受损膜元件,膜元件在采用任何含有潜在氧化性的消毒剂前,首先必须清洗掉铁和其它金属离子。通常情况下,系统中的支元件首先受损,可采用探测法确定。

 

严重的机械损坏

更换受损膜元件,可采用寻找分布规律法(profiling)和探测法(probing)确 定受损膜元件。

透盐率低

症  状

可能的原因

解  决  方  法

透盐率低

产水量低

(进水压力高)

 

有机物污染

检查有机物或油的含量或是否超回收率操作。按清洗导则在pH12的条件下进行清洗,某些有机物容易清洗,但对聚电解质类有机物污染,清洗无效,而且也难于清洗油类有机物,此时可尝试用pH12的洗涤剂。

 

碳酸盐结垢

按清洗导则在pH2的条件下对系统进行清洗,可能需要强烈重复清洗,如果结垢十分严重或重复清洗不经济时,应更换膜元件。一般情况下,把系统 后的元件取出称重就可以了解结垢的程度。

 

硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶沉淀

按清洗导则用EDTA在pH12的条件下对系统进行清洗,如果结垢严重,需要重复清洗;如果结垢十分严重或重复清洗不经济时,应更换膜元件。一般情况下,把系统 后的元件取出称重就可以了解结垢的程度(但钡和锶的结垢除外)。

 

超极限水锤破坏

更换受损膜元件。

内漏嫌疑

透盐率高

“O"形圈泄漏或未装

采用寻找分布规律法(profiling)和探测法(probing)确定泄漏位置,更换已受损的“O"形密封圈。建议采用合适的密封剂并调整膜元件在压力外壳内的间歇,限制由于元件在压力容器内的运动而引起的密封圈磨损。

 

内部部件破裂

采用寻找分布规律法(profiling)和探测法(probing)确定泄漏位置,更换已受损的部件,如果膜元件产水管受损,更换膜元件。建议采用合适的密封剂并调整膜元件在压力外壳内的间歇,限制由于元件在压力容器内的运动而引起的密封圈磨损。

 

元件内漏

采用寻找分布规律法(profiling)和探测法(probing)确定泄漏位置,通过单支元件的测试或对系统内元件重排,可以确认存在内漏的元件。如果泄漏点随元件位置的改变而变化,则该元件就是泄漏源,此时需更换该元件。

家用元件故障排除一览表

脱盐率低

产水水质低

氯的破坏

更换膜元件,安装或更换碳滤。

产水量低

污堵

家用元件易受到微生物的污染,从家用元件外壳内取出元件,观察元件两端,闻一闻元件的气味就可确认是否存在微生物污染,受微生物污染的元件,通常散发难闻的气味,更换膜元件,安装或更换滤芯。

产水量低

结垢

从家用元件外壳内取出元件,用手捏一些,如果发出如同充满砂子的声音,在很大程度上就可以判断出现结垢问题,更换膜元件,检查盐水密封圈。

 

 

关于家用元件的更换,请咨询家用机供应商。

 

纳滤产水量增加

症  状

可能的原因

解  决  方  法

产水量高

(进水压力低)

透盐率高

膜氧化

更换受损膜元件,根除氧化源,通常情况下,系统中的支元件首先受氧化攻击,可采用探测法确定。

 

膜面剥离

(产水背压所致)

更换受损膜元件,可采用寻找分布规律法(profiling)和探测法(probing)确 定受损膜元件。

 

清洗消毒方法不正确

(存在铁污染)

更换受损膜元件,膜元件在采用任何含有潜在氧化性的消毒剂前,首先必须清洗掉铁和其它金属离子。通常情况下,系统中的支元件首先受损,可采用探测法确定。

 

严重的机械损坏

更换受损膜元件,可采用寻找分布规律法(profiling)和探测法(probing)确 定受损膜元件。

产水量高

(进水压力低)

透盐率降低

纳滤膜变得更致密、其透盐率低于产品规范值

对应某些纳滤系统。可以采用化学品处理的方法恢复其透盐率,请咨询陶氏液体分离部代表。

纳滤膜元件透盐率低

症  状

可能的原因

解  决  方  法

透盐率低

产水量低

(进水压力高)

 

有机物污染

检查有机物或油的含量或是否超回收率操作。按清洗导则在pH12的条件下进行清洗,某些有机物容易清洗,但对聚电解质类有机物污染,清洗无效,而且也难于清洗油类有机物,此时可尝试用pH12的洗涤剂。

 

碳酸盐结垢

按清洗导则在pH2的条件下对系统进行清洗,可能需要强烈重复清洗,如果结垢十分严重或重复清洗不经济时,应更换膜元件。一般情况下,把系统 后的元件取出称重就可以了解结垢的程度。

 

硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶沉淀

按清洗导则在pH12的条件下对系统进行清洗,如果结垢严重,需要重复清洗;如果结垢十分严重或重复清洗不经济时,应更换膜元件。一般情况下,把系统 后的元件取出称重就可以了解结垢的程度(但钡和锶的结垢除外)。

 

超极限水锤破坏

更换受损膜元件。

透盐率降低

产水量正常

纳滤膜变得更致密、其透盐率低于产品规范值

对应某些纳滤系统。可以采用化学品处理的方法恢复其透盐率,请咨询我公司。

 

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