- 工程概况
清华大学微电子所高纯水站产水用于超大规模型集成电路(VLSI)清洗工序,水处理 工艺采用了RO和EDI联合处理工艺,是目前流行环保型新工艺,由北京化工大学 设计。 2.设计原始资料
- 工艺流程及主要设备
- 预处理系统
包括水箱、水泵、絮凝剂加药计量泵、管道混合器、多介质过滤器及反冲洗泵等设备 水箱V=15m3/h, H=539kPa, 2台.
絮凝剂投加装置包括药箱、隔膜加药泵(电磁隔膜泵),PSC投加量为10mg/La.
管道混合器可使原水与絮凝剂快速充分混合生成絮状物。
多介质过滤器,流量为17.6m3/h,滤速为8m/h,2台((1用1备),除去悬浮物和胶体。
反冲洗泵为立式多级泵,每次反冲洗10min
5um微滤装置用于保证反渗透的进水SDI达到其规定值,即SDI< 4
- 反渗透系统
包括高压泵、反渗透组件、清水系统及中间水箱等。
高压泵为反渗透运行提供所需的进 水压力,Q=18m3/h,H=1 .2MPa,2台。
反渗透系统采用一级2段脱盐,1段反渗透压力容器按2:1排列,2段反渗透压力容器 按1:l排列,共5个压力容器,1段产水量为13. 2m3 /h,回收率为75环,2段产水量为 11. 2m3 /h,回收率为8500。反渗透组件选用美国海德能公司主产的芳香族聚酞胺膜ESPA3 型膜组件,它是超低压节能型复合膜,其外径/长度=F201. 9mm/1016mm,有效膜面积为 37. 16m2,脱盐率98%,操作压力1. 05MPa。反渗诱主要去除水中溶解盐类,同时去除大分子有机物及前段剩余的小微粒等。
为了确保反渗透系统的正常运行,在反渗透前设UV杀菌器,UV杀菌器的处理量为17.6M3 /h,波长为254m,强度为30000uW s/ cm2,杀菌率为99%。并设阻垢剂投加系统,阻垢剂采用Flocon260型,投加量为2.4mg/L,或PTPO100型.投加量为1mg/L。为 去除CO2,在两段反渗透之间投加NaOH,调节一段反渗透出水pH值为7.83, NaOH设 计投加量为4. 5mg/L。反渗透产水存人中间水箱。
乏渗透系统还设有清洗系统,包括水箱、清洗泵、5um过滤器等,同时也可用于对电 去离子装置进行清洗。
两段反渗透出水水质为:电导率<uS/cm, SiO2<500ug/L, TOC<50tcg/La
- 电去离子和脱氧膜系统
它包括中间泵、电去离子装置、脱氧膜组件及真空泵等 中间泵为电去离子和脱氧膜装 蒙提供动力升压,采用立式多级泵2台((1用1备),Q为112m3/L, H为490kPa
选用流量为11. 46m3 /h的电去离子组件,其产水量为10. 7m’ /h,回收率为95%电去
离子为进水组件。电去离子产水水质为:电阻率>1. 75M欧cm, SiO2 <20ug/L,系统设有一台脱氧膜组件,产水量为10. 7rn3 /h,包括6根脱氧膜组件,4X28-X4型,分两组,每 三段串联,除氧率为99. 58%,出水含氧量为30ug/L.以下。脱氧膜配有一台2BV5型液环 式真空泵,真空值为6. 65kPa,抽真六体和汽且为120m3 /h-
(4>循环后处理系统
包括高纯水箱、高纯水泵、去除TOC的185nm UV装置、高纯水设备清混床、超滤设备、 回水UV杀菌器、回水背压阀等。
高纯水泵系立式多级泵,Q为13.8M3/h, H为735kPa, 2台((1用1备),采用变频供水,压力0.25MPa
185nm UV杀菌器处理水量为13. 8m3 /h,照射强度C80000uw s/m2,出水TOC<10ug/L
高纯水设备精混床分两组,每组3台串联,共6台,单台产水量为5m3 /h,设计流速为 40m/h,出水电阻率>18M欧 cm.
终端采用中空纤维式NTU-3306-K6R型超滤装置1台, 大产水量为15 M3 ,切割分子量6000
回水UV杀菌装置,处理水量3m3/h ,照射强度上<30000uW s/cm2, 使用寿命8750h. 杀菌率>99%。纯水箱用氮密封以防再污染。
回水背压阀可保证用户用水点的水压稳定。
终出水水质:TOC<2ug/L,电阻率>18M欧 cm,溶解氧<4ug/L
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