纯水设备在光学、电子生产中的重要作用日益突出，纯水设备水质已经成为影响光学、电子产品质量、生产成品率以及生产成本的重要因素之一，水质要求也是越来越高。在光学、电子的生产过程当中，纯水设备的主要用作清洗用水以及用来配制各种溶液、浆料，不同的产品在生产过程中纯水的用途及对水质的要求也略有不同。
   在电解电容器的生产过程当中，铝箔及工作件的清洗需使用纯水，如水质当中含有氯离子，电容器就会有漏电现象发生。在电子管的生产过程中，电子管阴极涂覆碳酸盐，如果其中混入杂质，就会影响到电子的发生，进而影响电子管的放大性能。在晶体生长过程中，纯水中杂质的存在会改变晶体上不同面网的表面能，导致其相对生长速度也随之变化进而影响晶体形态。
  光学、电子用纯水常用处理工艺分为：
    1. 多介质过滤器+活性炭过滤器+反渗透+混合离子交换器+抛光混床
        特点：使用反渗透减少酸碱的使用量，运行费用较低，环境污染减轻。
    2. 自清洗过滤器+超滤+反渗透+电去离子（EDI）+抛光混床
        特点：自动化程度较高，无酸碱化，运行费用低，无环境污染。

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